光刻工艺研发工程师-TD Lithography Process Engineer(J17944)

1.光刻工艺实验设计与优化： 设计并执行光刻工艺实验（涂胶、曝光、显影等），引入新材料或优化参数，提升分辨率、覆盖精度和工艺良率； 2.缺陷分析与根因排查： 分析光刻过程中的缺陷和异常（如CD均匀性、套刻精度问题），使用思维导图、DOE等工具进行根因分析，提出并验证改进方案； 3.新材料评估与成本优化： 根据工艺路线需求，主导新材料的引入与验证，在提升工艺能力的同时降低制造成本； 4.光刻设备操作与维护协作： 操作和维护光刻设备（如ASML光刻机），确保设备高效稳定运行，并与设备供应商协作推动技术升级； 5.数据分析与报告输出： 收集并整理实验数据，使用Python、JMP等工具进行数据分析，生成实验报告以支撑工艺验证与技术决策； 6.跨部门协同与技术转移： 与工艺整合、良率工程、设备工程等团队紧密协作，推动新工艺从研发阶段平稳转移至量产线； 7.技术跟踪与创新贡献： 跟踪行业前沿光刻技术…… 完整岗位描述与官方投递入口,请登录后在岗位详情页查看。

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