光刻工艺研发专家/主任工程师-TD Lithography Process Expert/Staff Engineer(J19738)

1.光刻工艺方案设计与优化： 主导光刻工艺（涂胶、曝光、显影）方案的实验设计（DOE），优化剂量、焦距、NA等关键参数，提升图形分辨率与工艺窗口，解决光刻缺陷与线宽均匀性问题； 2.新型光刻技术开发与导入： 主导新型光刻材料（光刻胶、抗反射层）的评估及导入，结合制程节点需求拓展工艺窗口，推动新型曝光技术的预研验证与量产落地； 3.光刻-刻蚀协同优化： 拉通刻蚀和整合团队，建立光刻图形传递至刻蚀层的完整性评估机制，推动掩模版修正方案与光刻参数的协同优化，闭环图形失真问题； 4.缺陷改善与良率提升： 主导光刻工序缺陷（显影残留、颗粒污染、桥接等）的根因分析与系统性排查，联动设备与材料厂商制定改善方案，推动工艺缺陷密度持续下降； 5.技术规范与团队能力建设： 制定光刻机台与工艺的标准化规范文件，主导撰写技术报告与专利，培养青年工程师的光刻工艺技术能力。 【任职要求】 1.教育背景与专业知识： …… 完整岗位描述与官方投递入口,请登录后在岗位详情页查看。

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